Bagian Stamping Logam Lembaran SPHC SPCC Aluminium Stainless Steel Presisi Tinggi

Langkah-langkah berikut sering kali disertakan dalam proses oksidasi:
1. Pengumpanan bahan mentah: Gunakan pipa untuk menyalurkan bahan mentah ke reaktor untuk menjaga keseimbangan bahan mentah di dalamnya.
2. Reaksi: Untuk melakukan reaksi oksidasi, tambahkan oksigen ke dalam reaktor dan atur parameter reaksi (seperti suhu, tekanan, dan waktu reaksi).
3. Pemisahan produk: Gunakan pendingin udara untuk mendinginkan produk yang bereaksi, mengubahnya dari gas menjadi cair atau padat, kemudian menggunakan pemisah untuk memisahkan produk yang berasal dari berbagai komponen.
4. Pemurnian: Untuk memastikan bahwa produk reaksi mencapai kemurnian yang diperlukan, lakukan pemurnian.

5. Pengemasan: Setelah produk dimurnikan, produk dikemas sesuai dengan pedoman dan standar sebelum dijual kepada klien atau dikirim ke tahap pemrosesan berikutnya.
Dalam aplikasi khusus tertentu, seperti fabrikasi wafer semikonduktor, proses oksidasi juga mencakup penerapan energi panas dan oksidan (seperti oksigen dan air) ke substrat silikon untuk menghasilkan lapisan silikon dioksida (SiO2). Film oksida ini berfungsi sebagai lapisan anti-etsa untuk melindungi wafer dari pengetsaan yang tidak disengaja selama proses pengetsaan, menghentikan difusi selama proses implantasi ion, dan menghentikan arus bocor yang melewati sirkuit.